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在半导体制造中,激光标记技术通过定制化激光束对晶圆进行精密加工,通过促使晶圆表层物质蒸发或气化露出深层材质,或引发其化学物理变化,精准 “雕刻” 出图案、文字、条形码等标识,实现晶圆ID标记与 DIE标记追溯功能。该技术具备高精度、高效率、高清晰的特点,不仅能达到微米级标记精度,满足微小化、精细化的生 产需求,还可快速完成标记任务,适配大规模制造场景,且标记持久清晰,有效保障晶圆全生命周期的溯源管理与质量追踪。依托SEMI标准自动上下料系统与OHT天车运输系统的无缝对接,构建全自动化标记流程。
| 项目 | 主要技术参数 | |||
| 主要参数 | 装备型号 | LUV3220/LUV3320/LUV3420 | ||
| 光源 | 紫外、绿光(纳秒、皮秒选配) | |||
| 平均输出功率 | 5W、10W | |||
| 上下料方式 | 全自动上下料 | |||
| 加工性能 | 打标类型 | SEMIM12/M13、T7及其它2D CODE | ||
| 晶圆规格 | 4/6/8英寸或12英寸 | |||
| 字符大小 | 最小字符40μm、最窄线宽8μm | |||
| 打标深度 | 0~5μm@软标记、5~20μm@硬标记 | |||
| 重复打标精度 | ±100μm(轮廓定位)、±10μm(mark定位) | |||
| 自动化 | Open CST、FOUP、POD(自动LP、SMIF可选) | |||
| 其他 | 应用类型 | Wafer ID、DIE ID(正面、背面)等 | ||
| 通信方式 | SECS/GEM标准 | |||
| 装备尺寸(LxWxH) | 1400mmx1940mmx2150mm | |||
| 装备重量 | 1.5~2T | |||