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自动晶圆激光标刻智能装备

在半导体制造中,激光标记技术通过定制化激光束对晶圆进行精密加工,通过促使晶圆表层物质蒸发或气化露出深层材质,或引发其化学物理变化,精准 “雕刻” 出图案、文字、条形码等标识,实现晶圆ID标记与 DIE标记追溯功能。该技术具备高精度、高效率、高清晰的特点,不仅能达到微米级标记精度,满足微小化、精细化的生 产需求,还可快速完成标记任务,适配大规模制造场景,且标记持久清晰,有效保障晶圆全生命周期的溯源管理与质量追踪。依托SEMI标准自动上下料系统与OHT天车运输系统的无缝对接,构建全自动化标记流程。

  • 高效率
    WPH≥120
  • 多适配
    紫外、绿光
  • 高精度
    CCD 定位+OCR 复检
产品优势
  • 01
    配置SEMI标准的自动上下料系统
  • 02
    支持与OHT系统对接
  • 03
    搭载高精度CCD视觉定位和OCR复检
  • 04
    可选配不同激光光源(紫外、绿光),适应不同材料和规格的激光标刻工艺
  • 05
    高效率WPH≥120(Wafer ID标刻,SEMI M12标准)
技术参数
项目主要技术参数
主要参数装备型号LUV3220/LUV3320/LUV3420
光源紫外、绿光(纳秒、皮秒选配)
平均输出功率5W、10W
上下料方式全自动上下料
加工性能打标类型SEMIM12/M13、T7及其它2D CODE
晶圆规格4/6/8英寸或12英寸
字符大小最小字符40μm、最窄线宽8μm
打标深度0~5μm@软标记、5~20μm@硬标记
重复打标精度±100μm(轮廓定位)、±10μm(mark定位)
自动化Open CST、FOUP、POD(自动LP、SMIF可选)
其他应用类型Wafer ID、DIE ID(正面、背面)等
通信方式SECS/GEM标准
装备尺寸(LxWxH)1400mmx1940mmx2150mm
装备重量1.5~2T


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