111479
全自动晶圆激光退火装备LUA3200

通过机台前置EFEM系统预定位,结合定制激光退火头和精密运动平台相对运动,实现对整片SiC晶圆背金(N或Ti层)退火,形成良好欧姆接触,降低接触电阻,提高器件电学性能。

  • 激光光源
    绿光、紫光(纳秒)
  • 平均功率
    >30W
  • 加工尺寸
    8英寸及以下
产品优势
  • 01
    设备通过SEMI半导体行业认证
  • 02
    配置半导体标准的EFEM前置系统
  • 03
    满足退火后比接触电阻率小于10⁻⁵Ω.cm²
  • 04
    退火面无析碳或析碳少,非退火面温度<120度
样品展示
验证码
* 我已阅读数据隐私条款,并愿意接收到来自山推股份的产品信息
全自动晶圆激光退火装备LUA3200
华工激光官网登录
获取验证码 立即注册
网页聊天
live chat
网页聊天
live chat